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座長 早川純（日立） |
| 13:00−13:30 |
酸化物RFスパッタにおける高エネルギー酸素負イオンの空間分布計測
石島達夫1、後藤和也1、小野一修2、森田 正2、大嶋則和3、木下啓藏3、豊田浩孝1（1 名古屋大学、2 ULVAC、3 NEC） |
| 13:30-14:00 |
質量分離イオンビームを用いた反応性イオンによる磁性体膜エッチング反応の評価
唐橋一浩 伊藤智子 浜口智志 （大阪大） |
| 14:00-14:30 |
休憩
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座長 大嶋則和(ルネサス) |
| 14:30-15:00 |
CH3OHプラズマを用いたMRAMドライエッチング加工
小平 吉三、エルヌ・フランク（キヤノンアネルバ） |
| 15:00-15:30 |
高密度プラズマCVDを用いたMRAM保護膜の作製 (仮題)
河野雄一 （三菱重工） |
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