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| テーマ： |
「ポストスピン注入磁化反転」
スピン注入磁化反転に代わる磁化反転現象として注目される電界磁化反転を中心に議論を深める。 |
| 日 時： |
平成21年3月18日（水） 13:15 〜 15:30 |
| 場 所： |
中央大学駿河台記念館６７０号室
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| 世話人： |
高橋宏昌（日立），大谷義近（東大／理研），安藤功兒（産総研），大森広之（ソニー） |
| 問い合わせ先： |
高橋宏昌（日立）hiromasa.takahashi.yb＜at＞hitachi.com
（＜at＞を@にして送信下さい） |
| プログラム： |
| 13:15-14:00 |
GdFeCoにおける超短パルス光誘起磁化反転
塚本 新12, 伊藤 彰義1, C. D. Stanciu3, F. Hansteen3, A.V. Kimel3, A. Kirilyuk3, Th. Rasing3
1： 日本大学理工学部，2：JSTさきがけ，3：Radboud University Nijmegen |
| 14:00-14:45 |
(Ga,Mn)Asにおける電界による磁化方向制御
千葉大地1,2,3，西谷雄2，M. Sawicki2,4，仲谷栄伸5，松倉文礼2,1，大野英男2,1
1：科学技術振興機構ERATO，2 ：東北大学電気通信研究所，3： 京都大学化学研究所，4： ポーランド科学アカデミー，5： 電気通信大学 |
| 14:45-15:30 |
Fe/MgOおよぴFe/GaAsエピタキシャル接合における電圧印加異方性制御
鈴木義茂・野崎隆行・丸山拓人・塩田陽一・太田健太・白石誠司・新庄輝也（大阪大学）
Ha Seung-Seok, You Chun-Yeol（Inha Univ., Korea）
Van Roy Wim（IMEC, Leuven, Belgium） |
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