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共催 応用物理学会スピンエレクトロニクス研究会H17研究会
テーマ: 「スピン注入の展開」 スピン注入の基礎から新しい展開まで
日 時: 2005年7月21日(木) 13:00 - 17:00
場 所: 東京都港区芝公園 機械振興会館地下3階1号室(定員60名)
世話人: 綱島滋(名大)、斉藤好昭(東芝)、大森広之(Sony)、鈴木義茂(阪大基礎工)
問い合わせ先: 鈴木(阪大基礎工)
e-mail: suzuki-y@mp.es.osaka-u.ac.jp
TEL/FAX 06-6850-6425
プログラム: |
13:00-13:05 |
はじめに |
13:05-13:50 |
「スピン注入磁化反転の基礎」
佐久間昭正(東北大学大学院工学研究科) |
13:50-14:35 |
「MgO障壁層を用いたTMR素子の巨大TMR効果」
早川純(日立、東北大)、池田正二(東北大)、李永眠(東北大) 松倉文礼(東北大)、高橋宏昌(日立、東北大)、大野英男 (東北大) |
14:35-15:20 |
「スピン流による強磁性の不安定化」
河野浩(阪大) |
15:30-16:15 |
「スピン注入素子のマイクロ波による評価」
鈴木義茂(阪大・産総研) |
16:15-16:55 |
「スピン注入素子におけるペルチェ効果」
福島章雄(産総研) |
16:55-17:00 |
まとめ
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