MSJ 日本磁気学会

専門研究会

専門研究会運営規定

ナノマグネティックス専門研究会


	第21回ナノマグネティックス専門研究会　報告

日　時：2007年７月６日（金）13:30～16:30
場　所：日本大学理工学部駿河台校舎１号館２階122会議室
参加者：24名

　テープ媒体用GMRヘッドの応用開発、点接触型磁気抵抗素子から、ナノクラスター、パターンド磁性媒体の具体的な部分まで積極的な質疑が行われた。今後、ますます議論が深まることが予想される会議であった。

「１TBテープシステムのGMRヘッド技術」
　関根　昌章（ソニー）
　テープストレージ用に適した耐腐食性と磨耗特性を有するGMRヘッドを開発した。積層マルチ型のGMRヘッドと薄膜記録ヘッドにてトラック密度を向上させ、実機にて１TB/カセットが可能な記録密度を確認した。
「Magnetoresistance Characterization of NiFe Filims With a Planar Point Contact」
　大沢　裕一（東芝）
　ドライプロセスで形成されたNiFe微小接点に10％超の比較的大きなMRが出現することを確認した。抵抗値は電流駆動抵抗測定とも一致し、磁壁起源によるMRと推察される。MR比は接点面積に略逆比例で上昇した。
「CoPtCr-SiO₂グラニュラー垂直媒体の高密度記録再生特性～磁気クラスターサイズとノイズ、ビットパーコレーションの関係について～」
　川那真弓、竹野入俊司*、椎野弘崇、宮下英一、林直人（NHK、*富士電機デバイステクノロジー）
　検出分解能5nmの磁気力顕微鏡を用いて、CoPtCr-SiO₂グラニュラー垂直媒体の磁気クラスターサイズと記録再生特性の関係について調べ、高密度化には磁気クラスターサイズの低減が必須であることを実証した。
「ナノホール垂直パターンドメディア」
　菊地英幸、大島弘敬、中尾宏、伊藤健一、*益田秀樹（山形富士通/富士通研、*神奈川科学技術アカデミー）
　陽極酸化法でナノホールを形成するパターンドメディア作製方法を紹介した。ランダム配列であるが、スピンスタンドによるR/W評価を行った。また、ビットパターンメディア用ナノホール規則配列方法の紹介も行った。

（関根昌章（ソニー）、塚本新（日大））