MSJ 日本磁気学会

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ナノマグネティックス専門研究会


	第15回ナノマグネティックス専門研究会　報告

日　時：2006年2月3日（金）13:30～16:50
場　所：早稲田大学研究開発センター
参加者：25名

「Ru-SiO₂を用いたCoCrPt-SiO₂媒体中間層の薄膜化」
武隈育子、五十嵐万壽和、荒木亮子、根本広明、玉井一郎、平山義幸、細江　譲（日立）
薄い膜厚で高い媒体SNRが得られるCoCrPt-SiO₂垂直磁気記録媒体用の中間層の開発を目的にRu-SiO₂グラニュラ型中間層の検討を行い，記録層の磁気特性ならびに微細構造に与える影響を調べた．
「自己組織配列制御によるXY量子ドット媒体作成プロセス」
櫻井正敏，木村香里（東芝）
パターンド媒体作成を目的とし，量産性のあるテンプレート作成プロセスの候補としてジブロックコポリマーの自己組織配列制御技術を紹介した．60°の菱形及び長方形のガイドによる自己組織配列制御の結果を示した．
「AlSi相分離膜を利用した磁気記録媒体」
安居伸浩，堀江亮子，福谷和彦，丹治晃一，田　透　（キヤノン）
Alシリンダーとα-SiのマトリックスからなるAlSi相分離膜を紹介し，Al部分を選択的にエッチングしたものを新規磁性充填用テンプレートとして提案した．メッキでの充填性も高く，媒体化の可能性を示した．
「SmCo₅垂直磁化膜の磁気特性と構造」
佐山淳一、朝日透、逢坂哲彌　（早大）
Cuシード膜を用いて作製したSmCo₅垂直磁化膜の磁気特性について紹介し，大きな垂直磁気異方性の出現に関係していると考えられる構造的な特徴，ならびに，その磁化機構に関して議論した．

　今回の専門研究会は，垂直磁気記録媒体の開発に関連した内容として，記録層の構造制御，将来の記録層材料，微細磁化ドットの形成技術について御講演をお願いし，活発な議論がなされた．今回の専門研究会にご協賛を賜り，会場をお貸りした早稲田大学先端科学・健康医療融合研究機構に深謝する．

（東北大島津武仁，東芝岩崎仁志）