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関係者各位
応用磁気学会第15回ナノマグネティクス専門研究会を下記の通りに開催致いたしますので，ふるって御参加のほどお願いいたします。また，ご関心のある方がいらっしゃいましたら，ご紹介のほど，宜しくお願い申し上げます．
担当幹事
東北大学 島津武仁
東芝 岩崎仁志 |
| 日時： |
平成18年2月3日(金) 13：30～16：50
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| 場所： |
早稲田大学研究開発センター 120-5号館 科健機構会議室
http://www.waseda.jp/scoe/12.html |
| 行き方： |
地下鉄 東西線 早稲田駅下車，徒歩5分程度 |
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| プログラム： |
| 13:30～14:15 |
「Ru-SiO2を用いたCoCrPt-SiO2媒体中間層の薄膜化」
武隈育子、五十嵐万壽和、荒木亮子、根本広明、玉井一郎、平山義幸、細江 譲 （日立中央研究所）
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| 14:15～15:00 |
「自己組織配列制御によるXY量子ドット媒体作成プロセス」
櫻井正敏，木村香里 （東芝研究開発センター）
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| 15:00～15:20 |
休憩 |
| 15:20～16:05 |
「AlSi相分離膜を利用した磁気記録媒体」
安居伸浩，堀江亮子，福谷和彦，丹治晃一，田 透 （キヤノン）
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| 16:05～16:50 |
「SmCo5垂直磁化膜の磁気特性と構造」
佐山淳一、朝日透、逢坂哲彌 （早稲田大学）
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| ご出席の方は， できるだけ1/31(火)までに，E-mail等でご連絡願います。 |
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