MSJ 日本磁気学会

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日時：

平成１６年２月２０(金)

場所：

東京都渋谷区千駄ヶ谷　津田ホール　Ｔ１０５会議室
（千駄ヶ谷駅前　http://www.tsudahall.com/）

議題：

１３：１５－１４：００	「電子線ホログラフィーによるナノ結晶磁性材料の磁区構造評価」東北大学　多元物質科学研究所　進藤大輔
１４：０５－１４：５０	「ＭＲＡＭの選択書き込み領域拡大方法」ソニー（株）　ストレージ技術研究所橋本　実、　曽根　威之
１４：５０－１５：１０	休憩
１５：１０－１５：５５	「強磁性金属ナノコンポジット膜の作製と磁気特性～Left-Handed Materialsの実現を目指して～」 JST　PRESTO　冨田知志
１６：００－１６：４５	「マグネティックトンネルトランジスタの作製と電流透過率のベース膜構造依存性」廣瀬貴一，藤原裕司，神保睦子，小林正，塩見繁三重大学，大同工大

問合わせ先：

三俣千春(日立金属)　
TEL：(048)531-1643
e-mail：chiharu_mitsumata@hitachi-metals.co.jp