国際・国内会議カレンダー l サイトマップ l お問い合わせ 
ホーム 学術講演会 研究会等 学会誌 情報コーナー 会員サービス 入会案内
専門研究会
専門研究会運営規定
ナノマグネティックス専門研究会
ナノバイオ磁気工学
スピンエレクトロニクス専門研究会
化合物新磁性材料研究会
強磁場応用専門研究会
光機能磁性デバイス・材料専門研究会
完了した研究会
第2回ナノマグネティックス専門研究会
開催日: 平成15年6月20日(金)
時間: 午後1時半〜5時
場所: 東芝 科学館 2階ABホール
交通手段は添付ファイルをご覧ください。
守衛で、ナノマグネティクス研究会に出席の旨をお伝え下さい。
プログラム:
13:30-14:15 「GHz帯域用積層グラニュラー膜」
    藤本正之 (太陽誘電)
14:15-15:00 「MRAMの最新動向」
  石綿延行、田原修一 (NECシリコンシステム研究所)、
  與田博明 (東芝研究開発センター)
15:00-15:20 休憩
15:20-16:05 「磁性材料のナノ組織の3DAP解析による磁気特性発現機構の解明」
  宝野和博 (物質・材料研究機構)
16:05-16:50 「NOLを用いた高感度スペキュラースピンバルブ薄膜」
  福澤英明 (東芝)
 
御出席の方はFAXあるいはEmailで御連絡お願いいたします。
なお、この後懇親会も予定しております。懇親会にご出席の方もご連絡お願いします。
連絡先: 岩崎(東芝)
TEL: 044-549-2390、FAX:044-520-1253
Email: hitosi.iwasaki@toshiba.co.jp
担当幹事: (株)東芝  岩崎 仁志
九州大学  松山 公秀