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第79回マイクロ磁区専門研究会を下記のように開催いたします．
奮ってご参加下さい．
日時：平成14年6月21日(金) 午後1時15分〜4時30分
場所：津田ホールＴ105会議室 < 詳細はこちら >
プログラム： |
| 13:15〜 |
「２．５インチディスク状ナノパターンドメディアの作製」
内藤勝之、稗田泰之、櫻井正敏、鎌田芳幸、浅川鋼児(東芝 研究開発センター) |
| 14:00〜 |
「磁気X線顕微鏡による光磁気記録媒体の記録磁区観察と熱安定性の検討」
高木直之、山口淳、久米実(三洋電機)
Peter Fischer(Max-Planck-Institute for Metals Research)
熊澤正幸、綱島滋(名古屋大学) |
| 14:45〜 |
休憩 |
| 15:00〜 |
「完全スピン偏極強磁性体“閃亜鉛鉱型CrAs”の成長と特性評価」
水口将輝(産業技術総合研究所・東京大学工学系研究科)
眞砂卓史、秋永広幸(産業技術総合研究所)
岡林潤、小野寛太、尾嶋正治(東京大学工学系研究科)
白井正文(東北大学電気通信研究所) |
| 15:45〜 |
「TEMによるCo/Pd人工格子膜の格子歪解析」
前坂明弘、大森広之(ソニー） |
| 参加ご希望の方はメールでお名前、御所属、御連絡先を下記担当者までご連絡ください。 |
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連絡先 ソニー（株） ストレージ技術研究所２Ｇｐ
Tel:045-353-6842
Fax:045-353-6907
E-mail：Hiroyuki.Ohmori@jp.sony.com |
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