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日時：１９９８年４月３日（金） 13:30-17:10
場所：（株）日立製作所御茶ノ水本社ビル
参加者：43名
プログラム：- 「磁壁移動検出(DWDD)による超高密度光磁気再生」 白鳥 力（キャノン）
- 「磁気力顕微鏡(MFM)像のDFT解析によるトラック幅方向S/Nの検討」 岡崎 裕，鈴木淳子（ソニー中研）
- 「MFMによる単層垂直媒体のトラックエッジの観察」 本多幸雄，平山義幸，伊藤研也，二本正昭（日立中研）
- 「バイアス補正層を用いたスピンバルブ」 金井 均，山田健一郎，金峰理明，戸田順三 （富士通テクノロジ開発統括部）
- 「強磁性細線の磁化状態と伝導」大谷義近，深道和明（東北大工）
ソニーの岡崎氏からは，MFMによる面内磁気記録パターンのトラック幅方向の解析結果が報告された。疑似ランダムパターンを使った応答特性の解析に基づき，MFMによるトラック幅方向のマイクロトラック信号解析の有効性を示した。
日立の本多氏からは，垂直磁気記録パターンをMFMを用いて解析した結果が報告された。垂直記録のトラックエッジは面内記録に比べてシャープであり，4.5μm程度の比較的広いトラック幅では記録密度の増加に伴うトラック幅の減少が見られないことが示された。
富士通の金井氏からは，スピンバルブ素子の非対称性を改善する手法が紹介された。新たにバイアス補正層を設けることにより，固定層からの磁界によって自由層の磁化が傾いて生じる非対称性を補正できることが計算と実験により示された。
東北大の大谷氏からは，リソグラフィーにより幅0.3μm程度の細線に加工したCoおよびFeの磁界印加に伴う磁化状態と電気抵抗の変化の評価結果が報告された。ローレンツ電顕観察により推定される磁化状態変化では説明できない抵抗変化が観察されており，今後の解明が待たれる。
研究会後の講師を交えた懇親会では，最近のマイクロ磁区関連のトピックスで，大いに議論が盛り上がった。尚，今後の研究会開催予定は下記の通り。各研究会に関する問い合わせ，講演テーマ推薦は担当まで。
（日立ストレージシステム事業部 細江 譲)
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