日時：平成7年5月12日(金)
場所：ソニー(株)・横浜テクノロジーセンター
連絡先：46名
テーマ：
- 光磁気多値記録の磁性 島崎勝輔(日立マクセル技術研究所)
- スパッタピームによるFeN膜の作製及びその磁性 岡本 聡(東北大学科学計測研究所)
- エネルギーフィルタTEMによる CocrTa磁気記録媒体の組成偏折観察 屋久四男(日立製作所ストレージシステム事業部)
- 磁性層の薄膜化がディジタル磁気特性に与える影響 岡崎 格(ソニーRME開発部/現中央研究所)
(1) では，超解像やパーシャル・レスボンスによる高密度化の手法と比較したときのSNR はどちらが上回るかという質疑があった．
(2)では，FeN膜の磁性以上にスパッタ技術に質疑が集中した．(3)は，組成偏折をー目瞭然に見せる分折方法であるが，高エネルギーや少量の元素の分析に今後の発展の糸地がある．
(4)薄塗りメタルテーブの舷位性は，特にオーバーライト特性に見られる．
いずれの発表も，各分野で注目を浴びている内容のため，発表がしばしば中断するぐらい熱心な質疑応答が交わされた．また，世話人の怠慢のため・プログラムが学界誌に載らずご迷惑をおかげしました．
(ソニー中央研究所:林 和彦)
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