第34回 強磁場応用専門研究会

低温工学・超電導学会　2015年度第3回「多次元拘束磁場の発生と物質応答に関する調査研究会」共催
日時：　2016年3月10日(木) 13:30-16:40
場所：　早稲田大学研究開発センター120-5号館-124会議室
　　　　(〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513番地)
低温・超電導工学から生み出された高磁場発生技術は、高磁場利用のラボレベルでの普及を推し進め、物質・生体の形態制御や分離技術などの応用研究、物理的・化学的基礎研究などへと展開されています。本調査研究会は供給側に近い会員を母体とする低温工学・超電導学会と多様化・多次元化する磁場の利用者であるユーザーとの橋渡し役を担うことを目的とし、多岐に渡る磁場利用実態の把握、さらなる研究進展に必要な磁場条件などユーザーの要求仕様の把握、新規の物質応答に関する最新の動向調査を行なっています。
本年度の第3回調査研究会は、日本磁気学会 強磁場応用専門研究会との共催で開催することとなりました。今回は、弱磁性物質の関与するプロセスへの磁場制御・利用において、特にその創成期から分野をリードしてこられたエキスパートであるお二人、横浜国立大学の山本勲先生と、物質・材料研究機構の目 義雄先生にご講演頂けることになりました。できるだけじっくりと議論するため、講演時間を長くとり、基礎的な部分から解説いただける予定です。またとない機会ですので、是非、ご参加いただければと思います。
参加費：　無料

プログラム

13:30-15:00　液-液界面における結晶化に対する強磁場効果

山本 勲 (横国大)

13:40-14:20　強磁場中コロイド成形による配向セラミックスの作製とその特性

目 義雄 (物材機構)

次回以降の予告： 3月25日(水)13:10より第4回研究会を、3月30日(水)13:10より第5回研究会を、ともに大阪大学大学院 工学研究科 A1棟111号室にて開催します。