第251回研究会

機能性磁気デバイスのための磁性薄膜の成膜技術

自動運転，ロボティクスの普及により磁気センサの需要が高まり，また，MRAMが基礎研究段階から実用化への移行が行われる中で，磁気センサや磁気メモリなどの機能性磁気デバイスで用いる磁性薄膜の成膜技術が注目を集めています．最近でもスパッタリング法やめっき法，分子線エピタキシー法を使って磁性薄膜を製造する新しい取り組みが精力的に進められており，実用化に向けた今後の更なる発展が期待されています．本研究会では，磁性薄膜の成膜技術に関連する分野でご活躍の6名の研究者をお招きし，最先端の研究動向や，将来展望について講演していただきます．多くの方のご参加をお待ちしております．

＊11月14日までに参加登録・参加費支払いをされた参加者には、PDF版の研究会資料を配布，
「冊子を購入する」を選択された方には，研究会終了後に資料冊子を発送いたします．
＊現地会場では現金のみ参加受付いたしますが，PDF版資料のお渡しはありません．

日時：

2024年11月18日（月）13:00 ～ 17:20

場所：

ハイブリッド開催　（現地会場およびZoom開催）
現地会場：ワイム御茶ノ水Room E
(東京都千代田区神田駿河台2-1-20 御茶ノ水安田ビル4F)

参加申込：

締め切りました

参加費（PDF版資料代含む）：

無料（研究会資料予約購読者，学生）
3,000円（会員，賛助会員，協賛学会の会員）、6,000円（非会員）

冊子資料：

2,000円（会員，賛助会員，協賛学会の会員，学生）、4,000円（非会員）

＊参加費・資料代は消費税込み金額です
一度受け付けた参加費は返却いたしません

支払方法：

PayPal（クレジットカード決済）または　銀行振り込み
＊PayPalを選択：登録のメールアドレスへ請求書をお送りいたします．
PayPal（クレジットカード決済）メール請求書の決済手順
＊銀行振り込みを選択：下記口座まで参加費をお振込みください．

銀行振込	三菱UFJ銀行　神保町支店 （店番013）普通預金2259640
口座名義	公益社団法人 日本磁気学会

申込・支払期限：

2024年11月14日（木）

協賛：

応用物理学会，電気学会，日本物理学会, 電子情報通信学会, 日本金属学会, IEEE MAG-33 Sendai/Tokyo/Shin-Etsu/Nagoya/Kansai-Shikoku/Fukuoka Chapters

問い合わせ先：

日本磁気学会事務局　TEL：03-5281-0106

オーガナイザ：

小嶋隆幸（信州大），田中雅章（名工大），堀川高志（愛知製鋼），李　松田（QST）

プログラム

13:00 – 13:40

分子線エピタキシー法を用いた磁性ホイスラー合金薄膜の低温合成とデバイス応用

○山田晋也（阪大）

13:40 – 14:20

3次元磁気メモリのためのめっき技術

○高村陽太（Science Tokyo）

14:20 – 15:00

磁気センサ及び電子デバイス用磁性めっき技術

○齊木教行（東設）

休憩(20分)

15:20 – 16:00

コンビナトリアル成膜技術を用いた新規スピントロニクス材料の開発と物性評価

○遠山　諒（NIMS）

16:00 – 16:40

磁気デバイス向け磁性多層膜成膜技術および製造装置

○入澤寿和（キヤノンアネルバ）

16:40 – 17:20

低電流制御可能な磁性ガーネットの大面積成膜

○山下尚人（九大）

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