第126回研究会

第15回磁性人工構造膜の物性と機能専門研究会共催

「微細加工磁性体におけるスピン偏極伝導現象とその応用」

日 時  : 2002年11月22日(金) 9:00 – 16:55
場 所  : 機械振興会館 研2号室
協 賛  : IEEE Mag. Soc. Japan Chapter, 日本金属学会、電気学会、電子情報通信学会、

日本物理学会、応用物理学会

参加費  : 無料
資料代  : 1000円(会員,協賛会員,学生) 2500円(非会員)
問合せ先 : 日本応用磁気学会(03-3272-1761)
オーガナイザー: 藤好昭(東芝)、伊藤顕知(日立)、大谷義近(理研)

プログラム:


座長 斉藤好昭(東芝)
  1. 9:00-9:50 スピンエレクトロニクス研究の展望
    猪俣浩一郎(東北大)
  2. 9:50-10:40 CoFeBを使用した高MR比を示す強磁性トンネル接合材料
    鹿野博司、別所和宏、肥後豊、大場和博、水口徹也、細見正功(ソニー)
  3. 10:40-11:30 Pt添加磁性電極を用いた強磁性トンネル接合の高熱安定性
    杉田康成、松川望、小田川明弘、川島良男、森永泰則、大仲清司(松下)

<昼食11:30―12:30>


座長 伊藤顕知(日立)
  1. 12:30-13:20 強磁性トンネル接合の低抵抗化検討
    小林 和雄、佐藤 雅重、菊地 英幸(富士通)
  2. 13:20-14:10 100nmスケールの微小強磁性トンネル接合の作製と評価
    久保田均,濱田致知,安藤康夫,宮崎照宣(東北大)
  3. 14:10-15:00 GaAs(001)基板上のスピンバルブトランジスタ
    佐藤 利江,水島 公一(東芝)

<休憩 15:00-15:15>


座長 大谷義近(理研)
  1. 15:15-16:05 強磁性微小接点における磁気抵抗効果
    小野輝男(阪大)
  2. 16:05-16:55 ハーフメタル磁性体の伝導特性
    松井正顕、浅野秀文、伊藤顕知*(名古屋大、日立*)

研究会でのビデオ、写真撮影および録音は、ご遠慮いただいております。