MSJ 日本磁気学会


	日本応用磁気学会第154回研究会

「ナノ構造磁性体作製技術の最新動向」

　近年、磁性膜における構造の微細化とその制御は益々重要になっています。特に、トンネル磁気抵抗効果（TMR）素子、垂直通電型巨大磁気抵抗効果（CPP-GMR）素子、さらにパターンド媒体などでは、従来の成膜技術や微細加工技術の改良に加え、新しい技術を駆使するナノ構造化の試みも積極的に検討され始めました。そこで本研究会では、いくつかのナノ構造作製技術に着目し、第一線でご活躍の講師の方から最新動向を紹介していただきます。興味のある多くの方のご参加をお待ちしております。また、日本応用磁気学会総会から引き続いてのご参加も歓迎いたします。

日時：	2007年5月15日（火）　13：00～16:40
場所：	中央大学駿河台記念館2階280号室東京都千代田区神田駿河台3-１１-5　（JR・御茶ノ水駅、東京メトロ・新御茶ノ水駅より徒歩3分）電話03-3292-3111
協賛：	IEEE Mag. Soc. Japan Chapter、応用物理学会、電気学会、電子情報通信学会、ナノ学会、日本化学会、日本金属学会、日本表面科学会、日本物理学会
参加費：	無料（年間講読者、学生） 2,000円（会員、協賛会員） 4,000円（非会員）
資料代：	1,000円（会員、協賛会員、非会員、学生）
問合せ先：	日本応用磁気学会事務局 Tel: 03-5281-0106
オーガナイザ：	秋永広幸（産総研）、鈴木淑男（AIT）、中村元（信越化学）

プログラム：
座長：秋永広幸(産総研)

13:00-13:40	集束イオンビームによる立体ナノ構造形成とナノインプリント技術松井真二(兵庫県立大)
13:40-14:20	アルミナナノホールアレーの形成と微細加工への応用益田秀樹（首都大学東京／神奈川科学技術アカデミー）

休憩　14:20-14:40

座長：鈴木淑男(AIT)

14:40-15:20	パルス時間変調プラズマによる損傷フリー微細・磁性膜エッチング技術寒川誠二(東北大)
15:20-16:00	超臨界CO₂リフトオフによる微小トンネル接合の作製福島章雄、久保田均、湯浅新治(産総研)
16:00-16:40	AFMリソグラフィによるナノ構造磁性体の電気特性・磁気特性の制御竹村泰司¹⁾、白樫淳一²⁾（¹⁾横浜国大、²⁾東京農工大）

当学会では、研究会でのビデオ・写真撮影及び録音は遠慮いただいております。