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日本応用磁気学会第１２６回研究会，
第１５回磁性人工構造膜の物性と機能専門研究会共催
「微細加工磁性体におけるスピン偏極伝導現象とその応用」
日 時：
2002年11月22日(金) 9:00 - 16:55
場 所：
機械振興会館 研２号室
協 賛：
IEEE Mag. Soc. Japan Chapter, 日本金属学会、電気学会、電子情報通信学会、日本物理学会、応用物理学会
参加費：
無料
資料代：
1000円（会員,協賛会員,学生） 2500円（非会員）
問合せ先：
日本応用磁気学会（03-3272-1761）
オーガナイザー：
斉藤好昭（東芝）、伊藤顕知（日立）、大谷義近（理研）
プログラム：
座長 斉藤好昭（東芝）
１．
9：00−9：50
スピンエレクトロニクス研究の展望
猪俣浩一郎（東北大）
２．
9：50-10：40
CoFeBを使用した高MR比を示す強磁性トンネル接合材料
鹿野博司、別所和宏、肥後豊、大場和博、水口徹也、細見正功（ソニー）
３．
10：40−11：30
Pt添加磁性電極を用いた強磁性トンネル接合の高熱安定性
杉田康成、松川望、小田川明弘、川島良男、森永泰則、大仲清司（松下）
＜昼食11：30―12：30＞
座長 伊藤顕知（日立）
４．
12：30−13：20
強磁性トンネル接合の低抵抗化検討
小林 和雄、佐藤 雅重、菊地 英幸（富士通）
５．
13：20−14：10
100nmスケールの微小強磁性トンネル接合の作製と評価
久保田均，濱田致知，安藤康夫，宮崎照宣（東北大）
６．
14：10−15：00
GaAs(001)基板上のスピンバルブトランジスタ
佐藤 利江，水島 公一（東芝）
＜休憩 15：00−15：15＞
座長 大谷義近（理研）
７．
15：15−16：05
強磁性微小接点における磁気抵抗効果
小野輝男（阪大）
８．
16：05−16：55
ハーフメタル磁性体の伝導特性
松井正顕、浅野秀文、伊藤顕知＊（名古屋大、日立＊）
研究会でのビデオ、写真撮影および録音は、ご遠慮いただいております。
