専門研究会

第21回「磁性人工構造膜の物性と機能」専門研究会 開催のご案内
「ナノスケール磁気デバイスを目指す研究の新展開」

日 時: 2003年11月7日(金)13:00-17:00
場 所: 松下電器技術館2階セミナ−ル−ム
   〒570-8501 大阪府守口市八雲中町3-1-1
   TEL:06-6906-4801
(場所詳細、アクセス方法に関しましては、以下のHPをご参照ください
http://www.matsushita.co.jp/exhib/access/index.html )
参加費: 無料
参加申し込み方法: e-mail にて11月5日(水)までに
  • ご所属・ご氏名
  • 技術館見学希望の有無
を下記へお知らせください。
申し込み先: 榊間博(松下電器)
世話人: 新庄輝也(国際高等研)、榊間博(松下電器)、深見達也(三菱電機)
プログラム:
13:00〜13:30 技術館見学
13:30〜13:40 挨拶
13:40〜14:10 「ナノ接点を有する磁性体の磁性と磁気抵抗効果」
   三宅 耕作(京都大学)
14:10〜14:40 「磁壁の電流駆動」
   山口 明啓(大阪大学)
14:40〜15:10 「強相関電子系Mn酸化物ヘテロ接合を用いた室温強磁性の制御」
   田中 秀和(大阪大学)
 
--- 休憩 ---
15:20〜15:50 「反平行結合素子を用いたスピンエンジニアリング」
    猪俣 浩一郎(東北大学)
15:50〜16:20 「数値解析によるCCP-CPP構造素子の出力評価」
   長坂 恵一(富士通研究所)
16:20〜16:50 「FIB加工した交換結合膜のXMCD顕微鏡による磁気構造観察」
   加藤 剛志(名古屋大学)
16:50〜17:00 まとめ