「第6回磁性人工構造膜の物性と機能専門研究会」のお知らせ

(第38回光スピニクス専門研究会)
第13回電気学会 テラバイト光磁気記録調査専門委員会と共催)

題目：超高密度光ディスクの最近の展開−近接場と超解像−
  今秋開かれたISOM(千歳)，および，MORIS/ADSC(名古屋)，2つの国際会議で，SIL(solid immersion lens)を用いた近接場記録の大きな進展が報告されま した．また，Super-RENSと呼ばれる超解像・近接場技術が開発され，相変化 光記録のみならず光磁気記録にも利用できることが示されました．また，青 紫色レーザを用いた記録も実用段階に一歩近づきました．この研究会では， これら，最新の高密度光ディスク技術の展開を4人の講師にご紹介いただく ことになりました．多数の参加を期待します．

開催日時：2001年1月25日(木) 13:30-17:00

開催場所：東京工業大学百周年記念会館第1会議室 会場周辺地図

参加費：無料

参加申込：人数確認のため，参加申し込みを前日までにueyanagi@crl.fujixerox.co.jp宛にお願いします．

プログラム：

1. 微小開口を有するプラノコンベックス型ソリッド イマージョン ミラーを 用いた近接場光記録
   波多野 洋(ミノルタ)
2. 非磁性再生膜を用いた光磁気ディスクの超解像再生
   藤 寛(シャープ/NAIR)
3. 青色レーザを用いた光アシスト磁気記録におけるクロストークの評価
   片山 博之(シャープ）
4. GaN半導体レーザを用いた相変化型光ディスクへのNA1.5近接場光記録再生
   木島公一朗(ソニー)
オーガナイザ： 佐藤 勝昭(東京農工大)，金子 正彦(ソニー) 伊藤 彰義(日本大学)，　上柳 喜一(富士ゼロックス) お問い合わせは，上柳まで
E-mail: ueyanagi@crl.fujixerox.co.jp