|
|
 |
「高密度磁気記録をささえる 最近の微細加工技術と磁区評価技術」
協賛学会:電子情報通信学会,応用物理学会,日本金属学会,電気学会(予定)
|
| |
日本応用磁気学会では、毎年、応用磁気の基礎や最新技術をわかりやすく解説す る応用磁気セミナを開催しています。本年は、高密度磁気記録をささえる最近の 微細加工技術と磁区評価技術を取り上げてみました。
近年の高度情報化社会の進展には目覚ましいものがあり、扱うデータ量は急激に増 大しております。そのため、情報の記録を担う磁気記録装置については、それに対 応して小型低価格化とともに、記録密度のさらなる増大がはかられています。その ため、磁性膜の薄膜化や微細化にともない、種々の問題が生じ、それらへの対応が 迫られています。同時に、新しい応用の可能性を秘めた新しい物性も見出されてい ます。
そこで、このセミナでは、高密度磁気記録をささえる最近の微細加工技術と問題 点、及び加工した磁性膜の特性を評価、観察する技術について、基礎から最先端技 術に至るまでを、わかりやすく解説していただく予定です。
日時：1996年12月５日(木),６日(金)
場所：蔵前工業会館 東京都港区新橋2-19-10 Tel:03-3571-3151
参加費：
正会員及び協賛学会員 24,000 学生会員:12,000、非会員:34,000
テキスト代を含みます。
定員：６０名
申込方法：学会事務局に問い合わせ下さい
(社)日本応用磁気学会
〒103 東京都中央区 日本橋1-3-16 三井海上日本橋ビル2F
TEL: 03-3272-1761
【プログラム】
１２月５日(木)
10:00 〜 会場受付開始
座長:佐藤英行 (都立大)
10:30〜10:35開会の挨拶 桐野文良(日立)
１.最近の微細加工技術とその課題
10:35〜11:50
最近の超高密度磁気記録における微細加工技術とその課題 三浦義正(富士通)
11:50〜12:50 昼食(１時間）
座長:押木満雅(富士通)
２.微細加工プロセス技術とその応用
12:50〜13:55
ホトリソグラフィ技術及び磁気記録への応用 舛行崇(ニコン)
14:00〜15:05
ドライエッチング技術及び磁気記録への応用 塚田勉(アネルバ)
15:05〜15:25 休憩(20分)
15:25〜16:35
集束イオンビームによる磁気ヘッド加工 飯田孝太郎 (東京エレクトロン)
儀間武治 (マイクリヨンジャパン)
１２月６日(金)
座長:園部義明(日本IBM)
３.微細加工した磁気記録用デバイスの特性及び磁区評価技術
9:30〜10:25
レーザテクスチャ加工技術 有田陽二(三菱化学)
10:30〜11:25
埋め込みによる薄膜磁気ヘッドのトラック加工 與田博明(東芝)
11:25〜12:25 昼食(１時間）
座長:鹿野博司(ソニー)
12:25〜13:20
電子ビームリソグラフィーとその磁気記録等への応用 中谷功(金材研)
13:25〜14:20
電子顕微鏡を用いたミクロ磁気計測技術 矢島祐介(日立)
14:25〜14:45休憩(20分)
座長:小林正(三重大)
14:45〜15:40
スパッタ磁性金属超微粒子を用いた磁気及び光磁気記録状態の観察技術
北上修(東北大)
15:45〜16:40
MFM/AFMを用いた微小磁区観察技術 鈴木孝雄(豊田工大)
４.総括
16:45〜17:15
まとめ 越本泰弘(NTT-AT)
オーガナイザ：荒木悟(TDK),押木満雅(富士通),小俣雄二(松下),鹿野博司(ソニー)
越本泰弘(NTT-AT),小林正(三重大),小柳剛(山口大),
佐藤英行(都立大),園部義明(日本IBM),桐野文良(日立)
尚、当学会では、セミナでのビデオ写真撮影及び録音を遠慮いただいております。
|
|
 |
|
 |
