31.04
- 分野:
- 磁気記録
- タイトル:
- 磁気ヘッド材料最適化により、記憶容量を3倍に高める基盤技術を開発
- 出典:
- 10th Joint MMM/Intermag Conference (AV-08)
- 概要:
- 富士通と東北大学は、ハードディスクの再生用磁気ヘッドを改良し、記憶容量を3倍に高めることが可能な基盤技術を開発した。
- 本文:
- 富士通と東北大学高橋教授、角田助教授のグループは、ハードディスクの再生用磁気ヘッド材料としてL12型規則合金のMn3Irを反強磁性層に使用し、その成膜条件と熱処理温度を最適化することにより、大きな交換結合磁界と高いブロッキング温度を示す素子の作製に成功した。この技術を使うことにより、磁気ヘッドのさらなる微細化を可能にし、HDDの高密度化が期待できる。記録密度に換算すると、従来製品の3倍以上にはなるようである。
(東芝 甲斐正)